Growth Rate Enhancement of TiO2 byR-HiPIMS and Application to MemristorFabrication

ARASHLOO B. A., EFEOĞLU H., KARACALI T.

INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON APPLIEDSCIENCES AND ENGINEERING, Erzurum, Türkiye, 26 - 28 Kasım 2018, ss.4-6

  • Yayın Türü: Bildiri / Tam Metin Bildiri
  • Basıldığı Şehir: Erzurum
  • Basıldığı Ülke: Türkiye
  • Sayfa Sayıları: ss.4-6
  • Atatürk Üniversitesi Adresli: Evet